동진쎄미켐, 1분기 포토레지스트 증설 착공…소재 국산화 앞장
반도체 핵심소재, 생산량 2배 확대
윤병효 기자 (ybh4016@ebn.co.kr)
2020-01-15 11:00:40

일본이 반도체 핵심 소재에 대한 수출 규제를 시작한지 반년이 지나가고 있는 가운데, 국내기업들이 국산화에 속도를 내고 있다.

15일 정부와 소재업계에 따르면 동진쎄미켐은 1분기 내로 KrF(불화크립톤), Arf(불화아르곤) 등 포토레지스트 생산공장 증설에 착공할 예정이다. 설계는 이미 완료됐으며, 내년 초 정상 가동을 목표로 하고 있다.

동진쎄미켐은 증설이 완료되면 국내 포토레지스트 생산량을 현재보다 2배 이상 확보하게 된다.

포토레지스트는 감광재로써 반도체의 노광(Photo) 공정 단계에서 웨이퍼 기판에 패턴을 형성하기 위해 필수적으로 사용된다.

반응하는 빛의 파장에 따라 주로 KrF(불화크립톤, 248nm), ArF(불화아르곤, 193nm), EUV(극자외선, 13.5nm)용 등으로 구분되며, 반응하는 빛의 파장이 짧을수록 공정 미세화가 가능하다.

포토레지스트는 그간 일본으로부터의 수입에 의존하여 왔으나, 일본의 수출규제 이후, 수입 의존도가 빠르게 낮아지고 있다. 무역협회에 따르면 포토레지스트의 일본 수입 비중은 올해 1~6월 92%에서 7~11월 85%이다.

수입선이 벨기에(RMQC), 미국(듀폰), 독일(머크) 등으로 다변화됐고, 듀폰은 국내에 EUV용 포토레지스트 개발 생산시설 투자를 확정했다.

정승일 산업통상자원부 차관은 이날 경기도 화성시에 위치한 동진쎄미켐을 방문해 반도체 핵심소재의 국산화 노력을 격려하고 현장의 목소리를 청취했다.

정 차관은 "작년 7월 일본 수출규제 이후 민관이 힘을 합쳐 노력해 온 결과, 포토레지스트를 포함해 3대 품목 등 핵심소재의 공급안정성이 확보되어 가고 있다"면서 "1분기 내 동진쎄미켐의 생산공장 증설 착공 등으로 포토레지스트의 국내 공급 안정성이 한층 더 강화될 것으로 기대한다"고 말했다.

동진쎄미켐 이준혁 대표도 "생산공장 증설이 신속하게 착수될 수 있었던 것은 정부의 대규모 R&D 투자, 공장증설용 토지에 대한 신속한 용도변경 등 범정부적 지원이 있었기 때문에 가능했다"라고 말했다.

정 차관은 "올해를 미래 10년을 만들어가는 소부장 산업 경쟁력 확보의 원년으로 삼고, 대외여건 변화와 관계없이 소부장 경쟁력 강화정책을 지속적이고 일관적으로 추진해 나가겠다"고 밝혔다.
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